二硅化钴/硅化钴
二硅化钴（CoSi₂
低阻欧姆接触 · 硅基完美匹配 · 高热稳耐蚀 · 半导体先进制程核心材料
金属硅化物标杆，兼具超低电阻率、晶格高匹配度、高温热稳三大核心优势，是大规模集成电路、先进制程、高温涂层的关键材料。
核心卖点（三栏卡片）
⚡ 超低阻·欧姆接触王者
14 μΩ·cm极低电阻率，媲美金属；与硅形成理想欧姆接触，接触电阻极低，是7nm及以下制程接触层/互连首选。
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