二硅化铪粉体 HfSi₂ 硅化铪 难熔硅化物 高温抗氧化涂层 半导体薄膜 科研实验粉体

产品简介 

二硅化铪（HfSi₂）为灰色金属质感粉末，斜方晶系难熔金属硅化物。具备良好金属导电导热能力，高温条件表面生成二氧化硅保护膜，抗氧化性能优异，热稳定性强，与陶瓷、合金基体相容性较好。适用于高温防护涂层、复相金属陶瓷、半导体薄膜、磁控溅射靶材原料，面向高校实验室、新材料研发机构、特种材料企业开展配方与烧结工艺研究。

分子式HfSi₂

CAS：12401‑56‑8

熔点1680℃

密度8.02g/cm³ 供货纯度99‑99.9%，微米、亚微米粒度可协商定制。

产品特点

粉体颗粒分布均匀，严格管控杂质，批次性能稳定

导电导热性能优良，电阻率低，可作为导电功能相

高温可形成自保护氧化膜，抗氧化耐腐蚀

适配复相改性，可与其他硅化物、陶瓷相复配使用

支持小样测试，纯度、粒度指标可沟通调整

小样、小批量、大批量均可供货

性能说明

二硅化铪热膨胀系数稳定，硬度适中，不溶于水，耐常规酸碱侵蚀，可被氢氟酸混合酸腐蚀。常作为增强改性相添加进陶瓷以及铪基、铌基合金，提升基体高温抗氧化与导电性能，适配热压、常压烧结、热喷涂等多种工艺路线。 

应用范围

高温防护涂层：铪基、铌基难熔构件抗氧化保护层，航空航天热端部件防护

复相金属陶瓷：用作增强相，制备耐高温导电复相陶瓷坯体

半导体电子材料：集成电路阻挡层、导电薄膜、磁控溅射靶材原料

高温电热元件：高温导电元器件、电阻材料制备

科研实验：高校、研发机构用于硅化物合成、烧结工艺、新材料配方研发

采购须知

本产品支持小样试样，下单前可确认纯度、粒径等技术指标。产品建议密封充惰性气体存放，置于干燥阴凉环境，减少与空气长期接触，降低氧化团聚风险。需要技术资料、样品以及报价，可联系客服咨询。