硅化钛

2026-09-07

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二硅化钛粉体 TiSi₂ 硅化钛低电阻率硅化物半导体接触层复相陶瓷科研实验粉体

产品简介

二硅化钛（TiSi₂）为灰黑色带金属光泽粉末，正交晶系难熔金属硅化物。具备极低电阻率，导电性能优异，与硅基体热膨胀匹配度高，热稳定性良好，高温环境表面可形成二氧化硅防护层，化学稳定性较好。多用于半导体接触薄膜、扩散阻挡层、复相陶瓷改性、磁控溅射靶材原料，面向高校实验室、新材料研发机构、微电子及特种陶瓷企业开展配方与烧结工艺研究。

分子式TiSi₂

CAS：12039‑83‑7

熔点1540℃

密度4.02‑4.39g/cm³

供货纯度98‑99.9%，微米、亚微米粒度可协商定制。

产品特点

粉体颗粒分布均匀，严格管控杂质，批次性能稳定

电阻率低，导电表现优异，适配微电子导电功能相

与硅基体相容性佳，热应力小，界面结合良好

高温可生成二氧化硅保护膜，具备一定抗氧化能力

支持小样测试，纯度、粒度指标可沟通调整

小样、小批量、大批量均可供货