硅化钼/二硅化钼
二硅化钼(MoSi₂
超耐高温 · 自钝化抗氧化 · 低阻高导 · 高温结构/发热/半导体核心材料
金属间化合物标杆,兼具2030℃超高熔点、1800℃自钝化抗氧化、低阻导电、热稳耐蚀四大核心优势,是高温工业、先进电子、航空航天的关键材料。
一、基础信息
项目 参数
产品名称 二硅化钼(硅化钼)
化学式 MoSi₂
CAS号 12136-78-6
分子量 154.13
外观 灰色金属光泽粉末/块体
晶型 四方晶系(C11b型)
纯度 ≥99%(可定制99.9%/99.99%)
粒度 D50:1–10 μm(支持超细/定制)
二、核心物理指标(官网标准)
• 熔点:2030℃ 超耐高温,高温结构件首选
• 密度:6.24–6.31 g/cm³ 适中密度,兼顾强度与重量
• 电阻率(20℃):21.5 μΩ·cm 低阻导电,接近金属
• 热导率:45 W/(m·K) 高导热,散热稳定均匀
• 热膨胀系数:7.8×10⁻⁶ /K 低热胀,高温尺寸稳定
• 维氏硬度:HV 570 高硬耐磨,抗刮擦变形
• 脆韧转变温度:1000℃ 高温增韧,抗热震不开裂
三、关键化学指标(高纯级杂质上限,wt%)
• 钼(Mo):≥62.5(主含量)
• 硅(Si):≥37.0(主含量)
• 碳(C):≤0.05
• 氧(O):≤0.10
• 铁(Fe):≤0.03
• 铝(Al):≤0.02
• 钙(Ca):≤0.01
• 镁(Mg):≤0.01
• 镍(Ni):≤0.01
• 铬(Cr):≤0.01
化学稳定性:不溶于水、稀酸、浓酸、王水;仅溶于硝酸+氢氟酸混合液、熔融强碱;高温(>1000℃)表面生成致密SiO₂钝化膜,自保护抗氧化。
四、精炼卖点(官网直击,5条)
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