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凌颢金属

硅化钼/二硅化钼

2026-06-11
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二硅化钼(MoSi₂

超耐高温 · 自钝化抗氧化 · 低阻高导 · 高温结构/发热/半导体核心材料

金属间化合物标杆,兼具2030℃超高熔点、1800℃自钝化抗氧化、低阻导电、热稳耐蚀四大核心优势,是高温工业、先进电子、航空航天的关键材料。

一、基础信息

项目 参数 

产品名称 二硅化钼(硅化钼) 

化学式 MoSi₂ 

CAS号 12136-78-6 

分子量 154.13 

外观 灰色金属光泽粉末/块体 

晶型 四方晶系(C11b型) 

纯度 ≥99%(可定制99.9%/99.99%) 

粒度 D50:1–10 μm(支持超细/定制) 


二、核心物理指标(官网标准)


• 熔点:2030℃ 超耐高温,高温结构件首选


• 密度:6.24–6.31 g/cm³ 适中密度,兼顾强度与重量


• 电阻率(20℃):21.5 μΩ·cm 低阻导电,接近金属


• 热导率:45 W/(m·K) 高导热,散热稳定均匀


• 热膨胀系数:7.8×10⁻⁶ /K 低热胀,高温尺寸稳定


• 维氏硬度:HV 570 高硬耐磨,抗刮擦变形


• 脆韧转变温度:1000℃ 高温增韧,抗热震不开裂

三、关键化学指标(高纯级杂质上限,wt%)


• 钼(Mo):≥62.5(主含量)


• 硅(Si):≥37.0(主含量)


• 碳(C):≤0.05


• 氧(O):≤0.10


• 铁(Fe):≤0.03


• 铝(Al):≤0.02


• 钙(Ca):≤0.01


• 镁(Mg):≤0.01


• 镍(Ni):≤0.01


• 铬(Cr):≤0.01


化学稳定性:不溶于水、稀酸、浓酸、王水;仅溶于硝酸+氢氟酸混合液、熔融强碱;高温(>1000℃)表面生成致密SiO₂钝化膜,自保护抗氧化。

四、精炼卖点(官网直击,5条)


1.

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