氯氧化铪（八水合）官网产品详情页

氯氧化铪（HfOCl₂·8H₂O），又称二氯氧化铪、八水合氧氯化铪，是高纯度水溶性铪化合物，由四氯化铪水解或氢氧化铪溶于高纯盐酸精制结晶而成。产品为铪系湿法工艺核心原料，纯度梯度覆盖工业至电子级，杂质（尤其锆）控制严苛，具备高水溶性、溶液稳定、易提纯、转化效率高等优势，广泛用于半导体、高纯氧化铪制备、光学镀膜、高端陶瓷、核工业等领域。

一、基础化学信息

• 中文名称：氯氧化铪（八水合）

• 英文名称：Hafnium Oxychloride Octahydrate

• 分子式：boldsymbol{HfOCl_2·8H_2O}

• 分子量：409.52

• CAS号：14456-34-9

• 外观性状：白色/无色透明结晶或粉末，易潮解

• 物质类别：水溶性无机铪盐

二、化学成分指标（wt%，金属基，除锆）

1. 主含量

• 工业级：boldsymbol{HfOCl_2·8H_2O ge 98.0%}

• 高纯级：boldsymbol{HfOCl_2·8H_2O ge 99.0%}

• 电子级：boldsymbol{HfOCl_2·8H_2O ge 99.99%}

2. 关键杂质限量（电子级，ppm）

杂质项目 含量上限 杂质项目 含量上限 

锆(Zr) ≤50 铁(Fe) ≤5 

硅(Si) ≤3 铝(Al) ≤3 

钛(Ti) ≤2 钨(W) ≤5 

钙(Ca) ≤5 镁(Mg) ≤2 

水分（游离） ≤0.2% 总重金属 ≤10 

注：锆为核心管控杂质，可定制低锆（≤10ppm）专项规格，适配半导体高端制程。

三、物理性能

1. 熔点/分解：约125℃失水，200℃以上逐步分解，无明确熔点

2. 密度：约2.2 g/cm³

3. 溶解性：极易溶于水（25℃＞100g/L），水溶液呈弱酸性、稳定性好；溶于稀盐酸、乙醇；8–9mol/L盐酸中溶解度最低，可用于铪锆分离提纯

4. 晶体特性：结晶规整、流动性佳，粒度可控（10–200μm），可加工超细粉

5. 潮解性：强吸湿性，暴露空气易吸水结块，需密封储存

6. 热稳定性：100℃内稳定，150℃逐步脱水生成无水氯氧化铪，高温转化为氧化铪

四、产品核心卖点

1. 超高纯度，低锆严控：多级重结晶+离子交换提纯，锆等杂质极低，达电子级标准，适配半导体栅介质、高纯氧化铪前驱体需求。

2. 水溶性优，溶液稳定：高溶解度、溶解速度快，水溶液清澈稳定，无浑浊沉淀，保障下游制程一致性。

3. 铪锆易分离，提纯高效：利用盐酸浓度差异实现铪锆高效分离，提纯回收率高、成本低，适合规模化高纯铪化合物生产。

4. 转化活性高，转化率优：湿法制备氧化铪、氢氧化铪、金属铪粉的理想原料，转化效率＞99%，产品纯度高、批次稳定。

5. 粒度形态可定制：提供结晶粉、超细粉、块状等形态，粒度可调，适配实验、中试、量产全场景。

6. 密封防潮包装，储运安全：双层密封袋+防腐塑料桶，隔绝空气水汽，有效防潮解变质；附完整COA质检报告，可长期稳定供货。

五、应用领域

• 半导体行业：制备高纯氧化铪（HfO₂）薄膜，用于芯片高k栅介质、晶圆钝化层、存储介质层。

• 新材料制备：湿法合成高纯氧化铪、氢氧化铪、硝酸铪、硫酸铪及铪基陶瓷粉体。

• 光学镀膜：红外窗口、激光元件、高端镜头增透/防护涂层，提升耐高温、耐腐蚀性能。

• 核工业：制备核反应堆控制棒用高纯金属铪，热中子捕获截面大、稳定性好。

• 高端陶瓷：HfC、HfN等硬质陶瓷添加剂，提升硬度、熔点与耐磨性能。

• 科研催化：铪基催化剂前驱体、有机合成络合反应原料。

六、包装、储存与运输

1. 包装规格：500g、1kg、5kg、25kg；双层PE密封袋+HDPE防腐桶，可定制高纯级无尘包装。

2. 储存条件：密封存放于阴凉、干燥、通风库房，温度＜25℃，相对湿度＜60%；远离水源、酸碱、氧化剂，严禁敞口放置。

3. 运输说明：普通危化品（腐蚀性），防潮、防撞击、防破损；运输温度≤30℃，避免暴晒雨淋。