四氯化铪（HfCl₄）是高纯度无机铪化合物，由金属铪与氯气经高温合成、精馏提纯制得，为铪系材料核心前驱体。产品纯度梯度齐全，杂质控制严苛，具备挥发性强、反应活性高、易升华等特性，广泛应用于半导体、光学镀膜、高端陶瓷、金属冶炼、有机合成催化等领域，是制备高纯金属铪、氧化铪、铪基涂层的关键原料。

一、基础化学信息

• 中文名称：四氯化铪

• 英文名称：Hafnium Tetrachloride

• 分子式：boldsymbol{HfCl_4}

• 分子量：320.30

• CAS号：13759-17-6

• 外观性状：白色至微淡黄色结晶粉末/针状晶体

• 物质类别：易升华无机卤化物

二、化学成分指标（wt%）

1. 主含量

• 工业级：boldsymbol{HfCl_4 ge 98.0%}

• 高纯级：boldsymbol{HfCl_4 ge 99.0%}

• 电子级：boldsymbol{HfCl_4 ge 99.9%}

2. 关键杂质限量（电子级标准）

杂质项目 含量上限 杂质项目 含量上限 

锆(Zr) ≤0.05% 铁(Fe) ≤0.002% 

硅(Si) ≤0.001% 铝(Al) ≤0.001% 

钛(Ti) ≤0.001% 钨(W) ≤0.002% 

水分(H₂O) ≤0.1% 总重金属 ≤0.003% 

注：锆为核心管控杂质，可根据客户需求定制低锆专项规格，适配半导体高端制程。

三、物理性能

1. 熔点/沸点：熔点约319℃（加压状态），常压下250℃左右直接升华，无液态稳定区间

2. 密度：约3.05 g/cm³

3. 溶解性：易溶于水、乙醇、四氯化碳等有机溶剂；遇水发生水解，生成氯化氢与水合氧化铪

4. 晶体特性：晶体结构规整，粉体流动性良好，常规粒度均匀，可加工为超细粉体

5. 挥发性：升华性能稳定，气相输送均匀，适配气相沉积、化学气相合成工艺

6. 吸湿性：强吸湿性，暴露在空气中易吸水发潮、释放刺激性气体

四、产品核心卖点

1. 高纯度低杂质：采用多级精馏工艺提纯，锆、铁、硅等有害杂质含量极低，分工业、高纯、电子多等级，满足不同行业严苛标准。

2. 升华性能优异：升华温度稳定、气相组分均匀，是CVD、PVD镀膜、气相合成的理想原料，镀膜成品致密度高、性能均匀。

3. 反应活性强：化学活性高，可高效参与还原、水解、络合反应，下游制备氧化铪、金属铪、铪基复合材料转化率高。

4. 规格可定制：可按需调整粒度、纯度、锆含量，支持普通结晶粉、超细粉等形态定制，适配实验、中试、量产全场景。

5. 批次稳定性强：自动化连续化生产，每批次成分、物性偏差极小，附完整质检报告，可长期稳定供货。

6. 专业防护包装：采用密封防潮、防腐蚀特种包装，隔绝空气水汽，有效避免水解变质，储运安全性高。

五、应用领域

• 半导体行业：制备高介电常数氧化铪薄膜，用于芯片栅极介质层、晶圆镀膜。

• 光学镀膜：光学镜头、红外窗口、激光元件增透/防护涂层，提升光学稳定性与耐磨度。

• 新材料制备：作为前驱体合成高纯氧化铪、氮化铪、金属铪粉及铪基陶瓷材料。

• 冶金工业：特种合金添加剂、稀有金属提纯助剂，优化合金耐高温、耐腐蚀性能。

• 化工催化：有机合成反应催化剂、络合反应原料。

六、包装、储存与运输

1. 包装规格：500g、1kg、5kg、25kg，采用耐腐蚀塑料桶+双层密封袋包装，可定制特种密封包装。

2. 储存条件：密封存放于阴凉、干燥、通风库房，远离水源、酸碱及氧化性物质，严禁露天放置。

3. 运输说明：属于腐蚀性危险品，严格按照危化品规范运输，全程做好防潮、防撞击防护。